沉积温度对气凝胶表面制备氮化硼薄膜微观结构及其疏水性能的影响

• 作者: 刘景雯 赵海谦 赵雨新 冯绍桐 杨洋 刘晓燕
• 来源期刊: 当代化工
• 关键词: 化学气相沉积 二氧化硅气凝胶 氮化硼纳米片 疏水性能
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 522-525
• 页数: 4页
• 分类号: TQ171
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-0460.2021.03.005

摘要

为研究氮化硼纳米薄层在气凝胶疏水改性领域的应用前景,采用气相沉积法在二氧化硅气凝胶基底上制备了氮化硼纳米片薄层,研究了制备参数(制备温度、保温时间)对氮化硼纳米薄层的表面形貌及其疏水性能的影响.结果表明:生长涂层的最佳制备参数为生长温度1200℃,保温时间60 min.同时,生长涂层的表面形貌与参数关系不大,但是涂层的润湿性能与涂层的制备温度密切相关,在1100～1200℃之间实现了亲水到疏水的奇异转变,这归因于涂层表面化学组分的改变.本研究表明,氮化硼纳米涂层可实现二氧化硅气凝胶的疏水改性,表面化学组分起关键性作用.