化学机械抛光机的抛光盘面形在位测量研究

• 作者: 马堃 金洙吉 董志刚 朱祥龙 康仁科
• 来源期刊: 组合机床与自动化加工技术
• 关键词: 化学机械抛光 抛光盘面形 在位测量
• 年，卷（期）: 2021,（6）
• 所属期刊栏目: 控制与检测
• 页码范围: 49-52
• 页数: 4页
• 分类号: TH16|TG506
• 语种: 中文
• DOI: 10.13462/j.cnki.mmtamt.2021.06.012

摘要

化学机械抛光机是加工光学元件的主要设备,抛光盘面形是影响抛光机加工精度的重要技术参数.现有的抛光盘面形测量主要依赖离线测量的方式,存在着测量基准不统一、二次装夹引发变形等问题.针对上述问题,提出了一种抛光盘面形在位测量方法,搭建了抛光盘面形在位测量系统.经过误差分析将测量误差分离成为平行度误差与直线度误差两部分,通过垫调整片的方式将平行度误差从0.043 mm减小到0.015 mm,再通过z向补偿的方式将测量误差进一步减小到0.006 mm.分别利用抛光盘面形在位测量系统和三坐标测量机对直径200 mm的检测件进行了测量,两种测量方式的结果显示:抛光盘面形在位测量系统的测量误差在0.003 mm之内.抛光盘面形在位测量系统的测量精度得到了有效验证.