还原镀金研究进展

• 作者: 吴博 黄静梦 谭桂珍 郝志峰 胡光辉 崔子雅 罗继业 谭柏照 杨应喜 李小兵 黎小芳 刘彬云
• 来源期刊: 表面技术
• 关键词: 镀金 表面 还原剂 催化 促进剂
• 年，卷（期）: 2021,（6）
• 所属期刊栏目: 研究综述|Research Review
• 页码范围: 148-160
• 页数: 13页
• 分类号: TQ153
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.06.015

摘要

金在电子产品和装饰性产品中的应用十分广泛,其稳定的化学性质不仅能够对基底起到良好的保护作用,金黄的色泽还具有装饰效果.虽然电镀金和置换镀金均能够沉积金层,但是金层的质量还存在不可控的难题,诸如基底形状会影响镀层的均匀性、"黑盘"现象的产生以及镀层厚度有限等.近年来,随着电子产品的快速发展,许多行业对电路板的整体质量提出了越来越高的要求,金层对保证电子器件的可靠性起着非常重要的作用.还原镀金是克服上述缺陷的一个重要研究领域,特别是环境友好的无氰镀金技术已成为研究热点.对氰化物体系和无氰体系镀金液常用还原剂(包括亚硫酸盐、二甲基胺硼烷、次磷酸盐、联氨、抗坏血酸、硼氢化钠、硫脲和其他还原剂)及促进剂的研究和作用基本原理进行了总结,重点阐述了镍和金对这些还原剂的催化活性.大部分还原剂仅受镍和金其中一种金属的催化,在沉积初始阶段和后期阶段,两种或多种还原剂的复配是实现反应速率保持较高的一种可行方案.沉积厚金依赖于可被金催化氧化的还原剂.最后展望了无氰还原镀金的发展方向.