激光清理RTV涂层的能量均衡技术

• 作者: 付超 袁田 龚宇佳 王昱晴 张锦
• 来源期刊: 高电压技术
• 关键词: 室温硫化硅橡胶 激光清理 功率 均衡性 光斑间距
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 电介质与电气绝缘|Dielectric and Electrical Insulation
• 页码范围: 1381-1390
• 页数: 10页
• 语种: 中文
• DOI: 10.13336/j.1003-6520.hve.20200313

摘要

老化RTV涂层的清理是复合化瓷、玻璃绝缘子运行老化遇到的问题,而激光清洗技术有望解决目前遇到的困难.为此对激光器清理RTV涂层的关键指标能量均衡技术进行了研究.研究认为光斑照射RTV涂层温度＞409.67℃时,可以实现涂层清理.维持涂层与镜头之间的工作距离可有效提高激光能量使用率.在75 W功率的激光输出下,光斑间距＜0.15 mm时,可实现完全涂层的完全清理,但会引起基体的釉面损伤.光斑间距的方差可体现激光能量的均衡水平,其与激光清理一维线长成反比,与激光脉冲频率成正比.功率在66～75 W、光斑间距的方差在0.09时瓷表面RTV清理效果最佳.来回清理模式可有效解决表面颜色不均匀带来的能量分布均衡性较差的现象.达到完全清理的单位面积所需能量为2.2～2.5 J/mm2.激光清理RTV涂层时设置来回清理模式比单次清理模式要更均匀有效去除瓷表面的RTV.