H2O和O3对热原子层沉积Al2O3薄膜性能研究

• 作者: 李士正 许佳辉 叶晓军 柳翠 袁晓 李红波
• 来源期刊: 太阳能学报
• 关键词: 原子层沉积 氧化铝 硅太阳电池 界面态 表面钝化 固定负电荷
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 页码范围: 223-228
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.2|TM914.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.19912/j.0254-0096.tynxb.2018-1240

摘要

采用热原子层沉积的方法,以三甲基铝(TMA)为铝源,配合H2O、O3及H2O+O3这3种不同的氧化剂制备Al2O3薄膜并研究Al2O3薄膜的生长、元素分布、薄膜结构和表面钝化质量随氧化剂种类和后退火工艺的变化规律.结果表明,H2O基的Al2O3薄膜具有较高的沉积速率及薄膜折射率,同时具有较低的杂质元素浓度和界面态缺陷密度;O3基的Al2O3薄膜则具有较高的固定负电荷密度和较好的热稳定性.通过在O3工艺中加入H2O,可有效降低Al2O3薄膜中杂质元素浓度和界面缺陷态密度,同时保留O3基Al2O3薄膜中较高的固定负电荷密度,从而在钝化性能上兼具两者的优势.