Ag催化化学腐蚀多晶绒面的制备及其特性研究

• 作者: 王绍亮 勾宪芳 徐征 任丙彦 周肃 庄浩
• 来源期刊: 太阳能学报
• 关键词: 多晶硅 黑硅 银催化 反射率 纳米结构重塑
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 页码范围: 268-271
• 页数: 4页
• 分类号: TM914.4+1
• 语种: 中文
• DOI: 10.19912/j.0254-0096.tynxb.2019-1267

摘要

该文采用液相两步法成功制备出具有高质量性能的黑硅绒面.当Ag粒子沉积时间为10 s、AgNO3浓度为0.01 mol/L,H2O2浓度为0.9％,黑硅刻蚀时间为120 s时,硅片绒面反射率最小为5.47％;Ag粒子去除阶段,采用碱洗方式去除残余银颗粒的效果要优于酸洗;黑硅纳米绒面重塑阶段,时间控制在90 s时纳米锥大小一致、均匀度最优.