等离子体技术对N,N-二甲基甲酰胺的去除研究

• 作者: 石林 陈作雁 郭晋 安兴才
• 来源期刊: 水处理技术
• 关键词: 二甲基甲酰胺 介质阻挡放电 等离子体 去除
• 年，卷（期）: 2021,（8）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 75-80
• 页数: 6页
• 分类号: X783
• 语种: 中文
• DOI: 10.16796/j.cnki.1000-3770.2021.08.014

摘要

采用一种气液两相介质阻挡放电等离子体技术对二甲基甲酰胺(DMF)进行处理,并研究了优化工作条件.结果 表明,初始DMF含量、电导率和pH对DMF的处理效果影响比循环流量和气流量大.在实验装置工作电压为14 kV、频率为20 kHz下,质量浓度213 mg/L的DMF水溶液经60 min的处理,DMF的降解率和TOC去除率分别为29.8％和4.27％,可生化性没有提高.DMF去除的主要机理是以HO·和O2-·为主的活性物质的氧化作用,且O2-·的贡献更大.