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摘要:
通过化学溶液法在玻璃基片上沉积硫化铅(PbS)薄膜,利用原子力显微镜(AFM)分析薄膜的表面形貌,采用X射线衍射(XRD)技术分析薄膜的结晶性能,利用透射光谱分析薄膜的光学性质.研究了退火对PbS薄膜性能的影响.结果表明:经过250℃退火处理,减小了PbS薄膜表面颗粒的平均高度,细化了PbS薄膜的晶粒大小,并改善了PbS薄膜表面形貌的均匀性;退火不改变PbS薄膜的晶体结构,其晶体结构依然是立方晶型;但退火后PbS薄膜的透过率明显降低.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 利用化学溶液法制备硫化铅薄膜及其特性研究
来源期刊 机电技术 学科 工学
关键词 硫化铅薄膜 化学浴沉积法 退火
年,卷(期) 2021,(6) 所属期刊栏目 材料、工艺与装备
研究方向 页码范围 55-58,89
页数 5页 分类号 TN213
字数 语种 中文
DOI 10.19508/j.cnki.1672-4801.2021.06.017
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研究主题发展历程
节点文献
硫化铅薄膜
化学浴沉积法
退火
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
机电技术
双月刊
1672-4801
35-1262/TH
大16开
福州市六一中路115号
1977
chi
出版文献量(篇)
3970
总下载数(次)
13
总被引数(次)
8918
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