锗抛光片表面清洗研究进展

• 作者: 周铁军 宋向荣 廖彬 马金峰
• 来源期刊: 科技风
• 关键词: 锗片 湿法清洗 干法清洗
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 所属期刊栏目: 机械化工
• 页码范围: 179-180
• 页数: 2页
• 语种: 中文
• DOI: 10.19392/j.cnki.1671-7341.202102084

摘要

论述了锗晶片表面清洗的不同方法以及表面清洗的机理.锗晶片的表面清洗分为干法清洗和湿法清洗.湿法清洗一般采用氧化、剥离的清洗原理,即首先采用氧化性溶液将锗晶片表面进行氧化,然后再用一定的化学方法将晶片表面的氧化物去除,从而实现对晶片表面的清洗.干法清洗是采用气相化学法去除晶片表面污染物,主要包含热氧化法和等离子清洗法.