氧化锌铝镓透明导电薄膜制备工艺的优化

• 作者: 刘志伟 李笑勉 王军 陈先亮 黄俊豪 陈俊生
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 关键词: 掺杂氧化锌 铝 镓 透明导电薄膜 田口法 灰关联分析 射频磁控溅镀 电阻率
• 年，卷（期）: 2021,（13）
• 所属期刊栏目: 镀覆技术|Deposition Technology
• 页码范围: 1006-1011
• 页数: 6页
• 分类号: TB383
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2021.13.005

摘要

将氧化锌掺杂铝和镓制成的靶材通过射频磁控溅镀的方式沉积在玻璃基板上.用四点探针法测量了薄膜的电阻率,用紫外可见光谱仪测量其透光率.采用田口法和灰关联分析法得到制备电阻率较低且透光率较高的薄膜的最佳工艺参数为:射频功率90 W,基板温度200°C,沉积时间45 min,制程压力1.333 Pa.溅镀后在溅镀腔体里以石英灯管加热至400°C退火,最终薄膜的电阻率可达4.65×10?3Ω·cm,在可见光区内的透光率为90％.