半导体光学薄膜材料的损伤程度因素分析

• 作者: 万文琼
• 来源期刊: 激光杂志
• 关键词: 半导体技术 光学薄膜材料 数据挖掘 损伤面积 影响因素
• 年，卷（期）: 2021,（7）
• 所属期刊栏目: 模式识别
• 页码范围: 100-103
• 页数: 4页
• 分类号: TN249
• 语种: 中文
• DOI: 10.14016/j.cnki.jgzz.2021.07.100

摘要

半导体光学薄膜材料是当前研究的热点,针对损伤程度直接影响半导体光学薄膜材料质量,为获得更好的半导体光学薄膜材料,减少半导体光学薄膜材料损伤的面积,提出基于数据挖掘技术的半导体光学薄膜材料的损伤程度因素分析方法.通过数据挖掘技术拟合半导体光学薄膜材料质量与其影响因素之间的映射关系,找到影响半导体光学薄膜材料损伤面积的主要影响,最后与其它半导体光学薄膜材料损伤程度分析方法进行对比测试,本方法可以更好地检测到半导体光学薄膜材料损伤面积,消除一些不利因素的影响,获得高质量的半导体光学薄膜材料,实际应用价值更高.