SiCrOxNy选择性吸收涂层制备及性能研究

• 作者: 李世杰 米菁 杜淼 于庆河 郝雷
• 来源期刊: 太阳能学报
• 关键词: 太阳能 磁控溅射 光学性能 平板集热器 选择性吸收涂层
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 页码范围: 14-18
• 页数: 5页
• 分类号: TB333
• 语种: 中文
• DOI: 10.19912/j.0254-0096.tynxb.2018-0968

摘要

采用直流及中频反应溅射在铜基底上沉积SiCrOxNy光谱选择性吸收涂层.对该涂层的光学性能进行表征,其吸收比为0.938,80℃发射比为0.07.经300℃,200 h热处理后,吸收比无明显变化,发射比小幅升高;俄歇电子能谱(AES)分析显示,界面处元素扩散和Cu基底氧化是涂层光学性能下降的主要原因.在35℃下进行5％盐雾腐蚀试验,腐蚀初期涂层发射比迅速升高,腐蚀36 h后吸收比衰减加速,涂层表面开始出现剥落现象;致密的SiO2减反射层对增强涂层耐盐雾腐蚀性能有明显效果.