浅析电子级多晶硅的清洗工序

• 作者: 张艾民
• 来源期刊: 清洗世界
• 关键词: 电子级多晶硅 清洗工序 杂质
• 年，卷（期）: 2021,（8）
• 所属期刊栏目: 实用技术
• 页码范围: 5-6
• 页数: 2页
• 分类号: TN304.12
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-8909.2021.08.002

摘要

电子级多晶硅产品的质量指标之一就是表面金属的杂质含量高低,而我国当下的电子级多晶硅清洗工序还是以酸洗为主导去除表面金属杂质含量,通过不同标准的化学刻蚀控制表面金属杂质含量,以达到产品的标准要求.文章就电子级多晶硅材料的化学清洗工序进行论述,讲述多晶硅的化学清洗工序中所涉及的化学试剂等因素的影响,提供清洗工序经验.