LTPSTP精益化管控研究

• 作者: 苏海东 王成龙 姚磊 闫雷 李峰 李凯 高云
• 来源期刊: 电子世界
• 年，卷（期）: 2021,（10）
• 所属期刊栏目: 探索与观察
• 页码范围: 87-90
• 页数: 4页
• 语种: 中文

摘要

低温多晶硅工艺作为薄膜晶体管显示器的主流工艺被各大面板厂商所采用.但是复杂的工艺制程导致基板形变较大,这就导致出现相应的光学类的不良,如串色,漏光,透过率低等.为了实现阵列基板和彩膜基板的高精度对位,本文研究了影响阵列基板总节距(Total Pitch,TP)均一性的工艺因素.