氧化铝陶瓷的精密抛光性能研究

• 作者: 王卫芳 陆宝山 关集俱
• 来源期刊: 机床与液压
• 关键词: 氧化铝陶瓷 精密抛光 表面粗糙度 碳化硅
• 年，卷（期）: 2021,（14）
• 所属期刊栏目: 试验与研究|TEST & RESEARCH
• 页码范围: 55-59
• 页数: 5页
• 分类号: TG580.6|TQ174.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3881.2021.14.011

摘要

为考察氧化铝陶瓷的精密抛光性能,将氧化铝陶瓷试片置于陶瓷工作环与研磨盘间进行研磨试验.用120目砂纸初磨试样,使试片原始表面粗糙度为1.49μm;使用碳化硅研磨液抛光,抛光过程中改变研磨液的浓度、粒径、载质量、转速及时间,并观察不同参数下氧化铝陶瓷试片的抛光效果.试验结果表明:采用粒径2μm的碳化硅磨粒,在轴向载质量为9 kg、磨盘转速为90 r/min、研磨液浓度为35％的工艺条件下连续研磨50 min,可使氧化铝陶瓷的表面粗糙度从初始的1.49μm迅速下降至0.22μm,表面质量改善率达到85％.在SEM电子显微镜及3D表面轮廓仪下观察,其试片表面由原先凹凸不平的粗糙表面变成平坦如镜的光滑表面,验证了氧化铝陶瓷材料良好的精密抛光加工性能.