基于背景约束的抗遮挡目标跟踪算法研究

• 作者: 阳永清
• 来源期刊: 电子设计工程
• 关键词: 背景约束 抗遮挡 目标跟踪 目标识别 跟踪线索 自适应融合
• 年，卷（期）: 2021,（17）
• 所属期刊栏目: 测量与控制|Measurement and Control
• 页码范围: 59-64,69
• 页数: 7页
• 分类号: TP391.41
• 语种: 中文
• DOI: 10.14022/j.issn1674-6236.2021.17.013

摘要

为获取高质量的目标跟踪结果,基于背景约束机制设计了一种新的抗遮挡目标跟踪算法.根据视觉纹理特征提取初始帧图像内的前景目标与背景特征,并通过建立前景目标物的概率约束提高目标识别的精度;采用粒子滤波跟踪框架,以颜色和二值形状为跟踪线索,利用Bhattacharyya距离判定目标物是否被遮挡;在目标遮挡条件下,采用自适应融合策略适时转变线索融合模式,同时将mean-shift算法引入粒子滤波框架内,实现抗遮挡目标跟踪.实验结果表明,非遮挡情况下的目标跟踪耗时在14 ns以内,遮挡情况下的目标跟踪耗时在17 ns以内;最大中心位置误差仅为16.7像素,最大覆盖率可达到82.1％,说明该算法具有较好的跟踪效果.