叶面喷施硅对辣椒镉阻控效果

• 作者: 范成五 柴冠群 刘桂华 罗沐欣键 隋岩峰 杨帆
• 来源期刊: 北方园艺
• 学科: 农学
• 关键词: 辣椒 外观品质 镉含量 硅含量 叶面喷施
• 年，卷（期）: 2021,（23）
• 所属期刊栏目: 研究简报|Research Notes
• 页码范围: 57-62
• 页数: 6页
• 分类号: S641.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.11937/bfyy.20211173

摘要

以绥阳小米辣为试材,采用水培试验的方法,研究了在5.0 mg·L-1 Cd胁迫条件下,喷施不同浓度Na2SiO3溶液(0、1、2、3、4 mmol·L-1)对辣椒产量与Cd累积的影响,以期为贵州辣椒绿色安全生产提供参考依据.结果 表明:叶面喷施Na2SiO3溶液能够促进辣椒果实发育和产量形成,增加辣椒硅含量,减少Cd的吸收及向地上部转移.与对照(LSi0)相比,叶面喷施4 mmol·L-1Na2SiO3处理(LSi4)辣椒结果率、产量、单果质量与果形指数增幅效果最明显(P＜0.05),增幅分别为54.55％、78.62％、30.77％与30.30％;辣椒不同部位Cd含量顺序表现为根＞叶＞茎＞果实,叶面喷施Na2SiO3溶液,各部位硅含量显著增加,Cd含量显著降低,根部Cd含量降低效率最快,叶面喷施Na2SiO3主要作用为通过茎部向下转运Na2SiO3抑制根部吸收Cd,降低各部位Cd含量,LSi4处理辣椒果实Cd含量降幅最明显,为29.18％.综合试验结果,叶面喷施Na2SiO3溶液有利于辣椒果实发育、产量形成和Cd含量降低,以4 mmol· L-1的喷施效果最明显.