反应离子刻蚀工艺中颗粒异常分析与改善

• 作者: 刘锡锋 何卓航 林婵
• 来源期刊: 时代汽车
• 关键词: 反应离子刻蚀 隧道扫描 颗粒问题 胺类副产物 射频功率
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 制造与工艺|MANUFACTURING AND PROCESS
• 页码范围: 131-132
• 页数: 2页
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-9668.2021.04.060

摘要

在使用反应离子刻蚀(RIE)工艺制造集成电路中,金属刻蚀后原介质层产生密集黑色颗粒物.采用了隧道扫描电镜(STM)的方法,对样片进行观测分析,结果表明该黑色颗粒为碳化后的胺类副产物.通过对反应过程的分析研究,确定了该问题产生的原因.为了解决该问题,在不改变工艺压力和温度的情况下,调整射频功率来提高反应效率.调整完成后进行了实验验证,结果表明该方法切实有效,颗粒问题得到了明显改善.