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TFT-LCD窄边框工艺的局限性研究
TFT-LCD窄边框工艺的局限性研究
作者:
陈帅
张显
王文强
郭剑伟
贺新钢
陈卓
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
摘要:
随着人们对手机外观审美的提高,面板厂商为了适应市场需求以客户、市场为导向的经营方针决定了窄边框技术成为一种必然趋势.薄膜晶体管液晶显示器的窄边框研究过程不断冲击着TFT-LCD生产工艺能力和设计能力的极限.当然,任何极限都不能破坏产品应该保证的可靠性水平,进而引发出新技术的应用以同时满足产品品质和工艺设计能力.本文从Cell成盒工艺的局限性入手,重点说明如何从工艺和设计两个方面进行改善,工艺上主要从配向膜印刷、封框胶涂布、切割等工艺进行分析改善,设计上主要从CF BM层挖孔、TFT PLN层挖孔、TFT金属线挖孔等方面进行分析改善.
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文献信息
篇名
TFT-LCD窄边框工艺的局限性研究
来源期刊
电子世界
学科
关键词
年,卷(期)
2021,(22)
所属期刊栏目
探索与观察
研究方向
页码范围
70-74
页数
5页
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字数
语种
中文
DOI
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子世界
主办单位:
中国电子学会
出版周期:
半月刊
ISSN:
1003-0522
CN:
11-2086/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市
邮发代号:
2-892
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
36164
总下载数(次)
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总被引数(次)
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