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SiC MOSFET单粒子效应研究现状
SiC MOSFET单粒子效应研究现状
作者:
刘翠翠
郭刚
李治明
张付强
陈启明
韩金华
杨新宇
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SiC MOSFET
单粒子效应
抗辐照加固
性能评估
摘要:
伴随核能与空间技术的快速发展,SiC MOSFET等高压大功率器件的应用不断增加,其因环境中的高能粒子辐射所引起的单粒子效应问题(如单粒子烧毁、单粒子栅击穿等)也逐渐凸显.为全面深入认识该问题,首先,论证了SiC MOSFET的优势特性,及其在辐射应用中面临的关键问题.然后,整理了目前国内外关于SiC MOSFET单粒子效应的模拟计算、辐照实验及相应研究成果,总结了在SiC MOSFET单粒子效应研究中的主要关注点,并分析了SiC MOSFET单粒子效应敏感性较高的原因.最后,基于目前SiC MOSFET单粒子效应研究中仍存在的问题,展望了未来可重点关注的研究方向.通过系统总结国内外SiC MOSFET单粒子效应研究进展,希望能为研究SiC MOSFET单粒子效应物理机制以及改进其抗单粒子效应加固技术提供有价值的参考.
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内容分析
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文献信息
篇名
SiC MOSFET单粒子效应研究现状
来源期刊
核技术
学科
工学
关键词
SiC MOSFET
单粒子效应
抗辐照加固
性能评估
年,卷(期)
2022,(1)
所属期刊栏目
综述|INVITED REVIEW
研究方向
页码范围
1-14
页数
14页
分类号
TL99
字数
语种
中文
DOI
10.11889/j.0253-3219.2022.hjs.45.010001
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
二级参考文献
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共引文献
(0)
参考文献
(0)
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二级引证文献
(0)
2022(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
SiC MOSFET
单粒子效应
抗辐照加固
性能评估
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
核技术
主办单位:
中国科学院上海应用物理研究所
中国核学会
出版周期:
月刊
ISSN:
0253-3219
CN:
31-1342/TL
开本:
大16开
出版地:
上海市800-204信箱
邮发代号:
4-243
创刊时间:
1978
语种:
chi
出版文献量(篇)
4560
总下载数(次)
14
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