聚天门冬氨酸酯基聚氨酯-脲丙烯酸酯的制备及性能研究

• 作者: 吕凯 童杰祥 孙冠卿 刘仁
• 来源期刊: 涂料工业
• 学科: 工学
• 关键词: 光固化 聚天门冬氨酸酯 聚氨酯-脲丙烯酸酯
• 年，卷（期）: 2022,（1）
• 所属期刊栏目: 探索开发|Research & Development
• 页码范围: 9-15
• 页数: 7页
• 分类号: TQ637.83
• 语种: 中文
• DOI: 10.12020/j.issn.0253-4312.2022.1.9

摘要

以异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、丙烯酸羟乙酯(HEA)以及3种不同主链结构的聚天门冬氨酸酯(PAE)为原料,制备了 3种基于PAE的聚氨酯-脲丙烯酸酯低聚物.通过傅立叶变换红外光谱、核磁共振氢谱对其结构进行了表征;研究了由这些低聚物所形成的UV固化涂层的机械性能,讨论了低聚物化学结构对涂层性能的影响.结果表明:以含双脂环结构的PAE制得的低聚物赋予了固化涂层较高的拉伸强度(48.34 MPa)以及铅笔硬度(3H);而以含聚醚链段的PAE制备的低聚物赋予了固化涂层良好的耐冲击性(70cm)以及附着力(1.95 MPa).因此,通过对低聚物的分子结构进行调整,可以设计出综合性能优异的UV光固化涂层.