铜构件磁控溅射多层膜及其耐蚀性

• 作者: 温佳源 宋贵宏 赵鑫 贺春林
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 铜 电沉积 磁控溅射 镍-铬合金 镍-铬-铝-硅合金 多层膜 微观结构 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2022,（1）
• 所属期刊栏目: 镀覆技术|Deposition Technology
• 页码范围: 18-22
• 页数: 5页
• 分类号: TQ150.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2022.01.005

摘要

先在铜基体上电镀Ni层,接着溅射沉积Ni–Cr和Ni–Cr–Al–Si合金薄膜.对比了Ni层、Ni/Ni–Cr复合膜层和Ni/Ni–Cr/Ni–Cr–Al–Si复合膜层的相结构、微观形貌和耐蚀性.结果表明,Ni电镀层表面光滑,Ni/Ni–Cr复合膜层和Ni/Ni–Cr/Ni–Cr–Al–Si复合膜层表面都由致密、连续的团簇颗粒组成.铜基体与Ni电镀层之间、Ni电镀层与溅射沉积薄膜之间都紧密结合.3种试样在海水中的腐蚀机制相同,Ni/Ni–Cr/Ni–Cr–Al–Si复合膜层的耐蚀性最佳.