电解抛光工艺参数对钨表面形貌和表面粗糙度的影响

• 作者: 张雪峋 刘奉妍
• 来源期刊: 有色金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 钨 电解抛光 工艺参数 表面形貌 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2022,（1）
• 所属期刊栏目: 理论研究|Theoretical research
• 页码范围: 18-26
• 页数: 9页
• 分类号: TG175.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.13258/j.cnki.nmme.2022.01.003

摘要

采用硫酸–甲醇–二水合柠檬酸钠电解质溶液体系对钨进行电解抛光.抛光液中硫酸与甲醇的体积比为1:7,二水合柠檬酸钠浓度为0.25 mol/L.改变抛光电压、温度及时间,探究了工艺参数对电解抛光钨的微观形貌和表面粗糙度的影响.用扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)和原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)对电解抛光后的试样进行表征测试.研究结果表明,在电压、温度和时间分别为22 V、20℃和7 min时,试样具有最小的表面粗糙度和良好的表面形貌.