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SiC电力电子学产业化技术的创新发展
SiC电力电子学产业化技术的创新发展
作者:
赵正平
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SiC单晶
SiC二极管
SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)
SiC绝缘栅双极晶体管(IGBT)
SiC门极关断晶闸管(GTO)
SiC功率模块
摘要:
进入21世纪后,宽禁带半导体SiC电力电子学发展迅速,SiC二极管和SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)先后进入商品化,在电动汽车等绿色能源的应用发展的带动下,SiC电力电子学进入产业化快速发展阶段.介绍了 SiC电力电子学在大尺寸SiC单晶,低成本SiC功率器件制造,SiC二极管、SiC MOSFET、SiC绝缘栅双极晶体管(IGBT)和SiC门极关断晶闸管(GTO)等功率器件,SiC封装和模块,以及高开关频率SiC器件的应用创新等产业化技术方面的最新进展.其中包含了大尺寸SiC单晶生长技术,基于商用Si CMOS生产线的SiC功率器件制备新工艺,SiC二极管的新结构与新工艺,SiC MOSFET的超级结结构、FinFET结构、高k介质栅与可靠性技术,SiC IGBT和SiC GTO的n沟道新器件及载流子寿命增强新工艺,SiC功率模块的设计与新装联工艺,SiC功率器件应用的新拓扑结构,栅极驱动电路与抑制寄生效应的新技术等.分析和评价了 SiC电力电子学产业化的发展态势.
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文献信息
篇名
SiC电力电子学产业化技术的创新发展
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
SiC单晶
SiC二极管
SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)
SiC绝缘栅双极晶体管(IGBT)
SiC门极关断晶闸管(GTO)
SiC功率模块
年,卷(期)
2022,(3)
所属期刊栏目
趋势与展望|Trends and Outlook
研究方向
页码范围
161-178
页数
18页
分类号
TN303|TN304.24
字数
语种
中文
DOI
10.13290/j.cnki.bdtjs.2022.03.001
五维指标
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(0)
节点文献
引证文献
(0)
同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
2022(0)
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二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
SiC单晶
SiC二极管
SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)
SiC绝缘栅双极晶体管(IGBT)
SiC门极关断晶闸管(GTO)
SiC功率模块
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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