半球谐振子金属化镀膜残余应力的测量方法及影响因素研究

• 作者: 朱蓓蓓 刘青 秦琳 楚建宁 陈肖 汪学方 许剑锋
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 残余应力 工艺参数 金属化镀膜 半球谐振子
• 年，卷（期）: 2022,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜|Thin Film
• 页码范围: 55-61
• 页数: 7页
• 分类号: TB383
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2022.02.11

摘要

半球谐振子金属化镀膜是半球谐振陀螺制造的重要工艺环节.镀膜过程所产生的薄膜残余应力对谐振子Q值有较大影响,决定着半球谐振陀螺零偏稳定性等最终性能.本文采用X射线衍射法测量薄膜残余应力,研究了镀膜工艺参数和膜层厚度对残余应力的影响,结果表明:薄膜残余应力均呈压应力状态;随着沉积速率的增大,薄膜应力先增大后减小,有转化为拉应力的趋势;随着膜层厚度的增加,薄膜应力先略微减小再增大;基底温度对残余应力的影响无明显规律.本文的研究对薄膜残余应力与谐振子Q值关系模型的建立具有重要指导意义.