X射线吸收谱测算锂氮共掺杂氧化锌薄膜局域电子结构

• 作者: 申赫 王岩岩 高铭 李东飞
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锌 p型掺杂 形成机制 稳定性 X射线吸收精细结构谱
• 年，卷（期）: 2022,（2）
• 所属期刊栏目: 材料合成及性能|Synthesis and Properties of Materials
• 页码范围: 218-225
• 页数: 8页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.37188/CJL.20210365

摘要

为了实现对Li—N共掺杂p型ZnO薄膜的形成机制以及其稳定p型导电原因的揭示,利用X射线光电子谱及基于同步辐射光源的X射线吸收精细结构谱测试对薄膜的局域电子结构进行了测算分析.获得了Li—N成键及Li—N复合型受主形成的信号,利用光致发光测量计算其受主能级为122 mV.证实了薄膜中Li—N复合型受主的形成,而Li—N共掺杂p型ZnO良好的稳定性则归因于Li—N共掺杂在p型ZnO薄膜中实现了Li和N的成键.