基于相位掩模板的常规光纤制备弱反射光栅

• 作者: 顾宏灿 姚高飞 黄俊斌 丁朋
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光纤光学 弱反射光纤布喇格光栅 相位掩模板 单模光纤 衍射光场
• 年，卷（期）: 2022,（2）
• 所属期刊栏目: 激光物理、材料与器件
• 页码范围: 149-154
• 页数: 6页
• 分类号: TN253
• 语种: 中文
• DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2022.02.001

摘要

为了探索采用常规单模光纤制备弱反射光纤光栅的可行性,以降低材料成本和传输损耗,基于相位掩模板法,在常规单模光纤上刻制弱反射光纤布喇格光栅(WFBG),并进行了实验验证.建立相位掩模板刻栅系统光场统一方程,分析光场分布对光纤布喇格光栅(FBG)中心波长和反射率的影响;采用传输矩阵法分析相位掩模板长度、平均折射率变化对FBG反射率和3dB带宽的影响,为WFBG刻制提供理论依据.采用248nm紫外准分子激光器在常规单模光纤上刻制WFBG,分析相位掩模板长度、曝光能量、曝光频率,曝光次数对WFBG中心波长、反射率和3dB带宽的影响,制备出反射率和3dB带宽分别约为0.0016,0.10nm和0.00006,0.34nm两种窄宽的WFBG.结果表明,基于相位掩模板法由紫外准分子激光对常规单模光纤多脉冲曝光,能够稳定刻制WFBG.该研究对WFBG制备的材料选型提供了参考.