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摘要:
本文系统地介绍了国内外研究机构对超晶格界面进行研究时采用的测试分析手段.其中,通过拉曼光谱、高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)、扫描隧道显微镜(STM)、二次离子质谱(SIMS)、X射线光电子能谱(XPS)等测试方法可以对InAs/GaSbⅡ类超晶格材料界面类型、界面粗糙度、陡峭性等特性进行测试分析,从而评估超晶格界面质量.光致发光谱(PL谱)、高分辨率X射线衍射(HRXRD)、霍尔测试、吸收光谱等测试方法则可以研究超晶格界面质量对超晶格材料能带、晶体质量、光学性质的影响.
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内容分析
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文献信息
篇名 InAs/GaSbⅡ类超晶格材料界面特性的表征分析
来源期刊 红外技术 学科 工学
关键词 InAs/GaSb Ⅱ类超晶格 InSb-like界面 GaAs-like界面 陡峭性
年,卷(期) 2022,(2) 所属期刊栏目 材料与器件|MATERIALS & DEVICES
研究方向 页码范围 115-122
页数 8页 分类号 TN215|TN304
字数 语种 中文
DOI
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研究主题发展历程
节点文献
InAs/GaSb Ⅱ类超晶格
InSb-like界面
GaAs-like界面
陡峭性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外技术
月刊
1001-8891
53-1053/TN
大16开
昆明市教场东路31号《红外技术》编辑部
64-26
1979
chi
出版文献量(篇)
3361
总下载数(次)
13
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