硅烷化SiO2涂层的制备及其性能研究

• 作者: 韩洪兴 赵磊 韩春 史纪村 崔朋勃 朱向辉
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: SiO2颗粒 KH-570偶联剂 硅烷化 涂层 接触角
• 年，卷（期）: 2022,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺·技术|Process & Technology
• 页码范围: 1185-1189
• 页数: 5页
• 分类号: TB332
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2022.01.029

摘要

采用KH-570偶联剂接枝改性SiO2颗粒表面,通过调节KH-570偶联剂的接枝密度定量控制硅烷化SiO2颗粒界面上的接触角,接着利用界面自组装方法制备可控层的硅烷化SiO2涂层.结果表明,硅烷化SiO2颗粒界面上的接触角随着KH-570偶联剂接枝密度的增加呈先增加后下降趋势,KH-570偶联剂为1.5 mL、pH值=10时,接触角最大,约为147°;硅烷化SiO2涂层为3层时,整个衬底被硅烷化SiO2涂层完全覆盖,接触角达到156°,属于超疏水涂层.