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摘要:
The normal fabrication process for electronic and opto-electronic devices can bring in significant modifications on two-dimensional (2D) semiconductors' intrinsic properties.To address this issue,some dry methods have been developed,such as "transfer contact" method and "shadow mask technology".However,the method that can combine the advantages of low cost,non-destruction,and high reliability at sub-micrometer scale is rarely reported.Here,we demonstrate a fabrication technique using ultrafine quartz fibers as shadow masks.
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篇名 A facile and non-destructive quartz fiber shadow mask process for the sub-micrometer device fabrication on two-dimensional semiconductors
来源期刊 稀有金属(英文版) 学科
关键词
年,卷(期) 2022,(1) 所属期刊栏目 SPECIAL TOPIC:2D MATERIALS
研究方向 页码范围 319-324
页数 6页 分类号
字数 语种 英文
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期刊影响力
稀有金属(英文版)
月刊
1001-0521
11-2112/TF
16开
北京学院路2号
1989
eng
出版文献量(篇)
2804
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