限制电流对Ta/BaTiO3/Al2O3/ITO忆阻器的开关比和稳定性调控

• 作者: 何朝滔 卢羽 李秀林 陈鹏
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 电阻开关 氧空位迁移 限制电流 焦耳热
• 年，卷（期）: 2022,（8）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、力学和热学性质|CONDENSED MATTER: STRUCTURAL, MECHANICAL, AND THERMAL PROPERTIES
• 页码范围: 245-250
• 页数: 6页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.71.20211999

摘要

利用磁控溅射技术沉积了Ta/BaTiO3/Al2O3/ITO多层薄膜,观察到该结构中的电阻开关现象受到限制电流的调控.在限制电流大小为10–2 A时,器件中的电阻开关现象达到最优.Ta/BaTiO3/Al2O3/ITO多层薄膜的电阻开关具有良好的可重复性和稳定性.本文使用空间限制电流的传导模型对Ta/BaTiO3/Al2O3/ITO器件中受限制电流调控的电阻开关传导机理进行了解释.