量子点墨水专利总体状况分析

• 作者: 温海旭
• 来源期刊: 印刷工业
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2023,（4）
• 所属期刊栏目: 技术专题
• 页码范围: 39-42
• 页数: 3页
• 语种: 中文

摘要

以 Himmpat 专利检索分析系统为分析工具，通过论述量子点墨水领域的产业概况、应用，从全球申请趋势、技术全球分布分析、中国申请趋势出发探析其专利申请概况，以期为我国申请人在以后申请量子点墨水相关领域的技术研究提供思路。