低压快速氢化引入氧空位增强TiO2光催化降解性能

• 作者: 陈峰磊 杨万林 朱俊奎 魏秋平 张龙 李静 马莉
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: TiO2 氢化处理 氧空位 四环素 光催化降解
• 年，卷（期）: 2024,（6）
• 页码范围: 37-45
• 页数: 9页
• 语种: 中文
• DOI: 10.19976/j.cnki.43-1448/TF.2023037

摘要

利用管式炉在300、400和500℃对TiO2光催化剂(P25)进行低压快速氢化处理，研究氢化温度对样品物相结构、光电化学性能及催化降解活性的影响。结果表明：随氢化温度升高，P25氧空位浓度、光生载流子分离效率、可见光吸收性能、载流子浓度以及光催化活性均先增大后减小，400℃氢化处理1 h的P25具有最佳上述性能。P25的BET (Brunauer-Emmett-Teller)比表面积对氢化温度的变化不敏感，说明低压快速氢化可在避免比表面积损失的同时引入氧空位，抑制电子空穴对的复合，提高光吸收性能和载流子浓度，从而提升P25的光催化性能。400℃氢化处理1 h后，P25的反应速率常数是未处理P25的1.63倍。