氧化石墨烯基表面印迹材料的制备 及对镉离子吸附性能研究

• 作者: 吴新华 刘久逢 肖洁 刘军 湖南化工职业技术学院
• 来源期刊: 辽宁化工
• 关键词: 氧化石墨烯 甲基丙烯酸 表面印迹 吸附
• 年，卷（期）: 2024,（9）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 25-28,32
• 页数: 5页
• 语种: 中文
• DOI: 10.14029/j.cnki.issn1004-0935.2023.09.038

摘要

以γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH570)改性后的氧化石墨烯(GO)为载体(FGO)，甲基丙烯酸(MA)为功能单体，镉离子(Cd2+)为模板，偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂，制备了FGO与MA表面印迹Cd2+的复合材料(FGO/MAIIP)和非表面印迹Cd2+的复合材料(FGO/MANIP)。采用红外光谱(IR)和X射线光电子能谱(XPS)对印迹FGO/MAIIP、非印迹FGO/MANIP复合材料进行表征，考察了其对Cd2+的吸附性能。结果显示：KH570与MA成功接枝到GO表面；发现当吸附剂FGO/MAIIP用量为0.4 g/L,pH=5，温度25℃，吸附时间为10 min条件下，FGO/MAIIP对Cd2+的吸附量达到156 mg/g，对Zn2+的选择系数达到8.34，相对分离比达到10.8。