原文服务方: 铜业工程       
摘要:
高纯铟具有独特的半导体属性,在液晶显示、半导体、光伏等领域发挥着不可或缺的重要作用。随着电子信息技术及相关器件的迅速发展,高纯铟的市场需求不断增加,并对提纯技术提出了愈加严格的要求。本文综述了高纯铟的应用领域及其物理提纯技术的研究进展,详细探讨了真空蒸馏法、区域熔炼法和定向结晶法等物理提纯技术在高纯铟制备中的应用。最后,基于当前高纯铟提纯技术的发展现状,提出了未来的发展方向,包括提升智能化渗透率、提高工艺链整合度和进一步深化多模态、多场条件下理论体系的构建。
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文献信息
篇名 高纯铟的应用及其物理提纯技术研究进展
来源期刊 铜业工程 学科 工学
关键词 高纯铟;稀散金属;真空蒸馏法;区域熔炼法;定向结晶法
年,卷(期) 2025,(1) 所属期刊栏目 高纯金属专题
研究方向 页码范围 3-10
页数 8页 分类号
字数 语种 中文
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研究主题发展历程
节点文献
高纯铟;稀散金属;真空蒸馏法;区域熔炼法;定向结晶法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
铜业工程
双月刊
1009-3842
36-1237/TF
大16开
江西省南昌市青山湖区高新区昌东大道7666号
1984-01-01
中文
出版文献量(篇)
3114
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