瓷砖整体梁抛光机运动模式仿真分析

• 作者: 隋旭东 杨振恒 韩文 曾时金 詹新平 .科达制造股份有限公司 .景德镇陶瓷大学
• 来源期刊: 佛山陶瓷
• 学科: 化学
• 关键词: 瓷砖抛光;抛磨均匀性;仿真分析;瓷砖抛光机
• 年，卷（期）: 2025,（12）
• 页码范围: 52-56
• 页数: 5页
• 语种: 中文

摘要

为了研究抛光工艺参数和抛光机横梁摆动对瓷砖抛光效果的影响，本文以目前常用的某型号的整体抛光机为例进行仿真分析。构建了磨削频次分布模型，根据瓷砖运行速度、横梁摆动速度、横梁摆动时间、边部停留时间三组生产实际参数，对180#和240#磨头的抛磨轨迹为例进行仿真研究。研究结果表明在相同的抛光工艺参数和磨头数目下，磨头间距直接影响瓷砖抛光的均匀性。由于整体梁抛光机的前机和后机之间的磨头间距产生变化且运动规律完全相同，在前后机的交界处会产生较差的抛磨效果。与此同时，整体梁抛光机横梁摆动速度到达极限，当产能需求增大时抛磨重叠面积会进一步加大，导致抛磨均匀性大大降低。