半导体技术期刊
出版文献量(篇)
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半导体技术

Semiconductor Technology

CAJSTAJSACSTPCD

影响因子 0.3579
《半导体技术》是由信息产业部主管,中国半导体行业协会、半导体专业情报网、中电科技集团公司十三所主办,业内权威的国家一级刊物之一。1976年创刊,它以严谨风格,权威著述,在业内深孚众望,享誉中外,对我国半导体事业的发展发挥了积极作用。“向读者提供更好资讯,为客户开拓更大市场”,是《半导体技术》的追求,本刊一如既往地坚持客户至上,服务第一,竭诚向读者提供多元化的信息。 《半导体技术》是中文核心... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
中国学术期刊光盘版《CAJ-CD》执行优秀期刊奖(03)  中国科技论文统计用刊  中文核心期刊 
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄179信箱46分箱
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  • 作者: 夏马力 谷晓钢 黄玲琴
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  401-409
    摘要: 碳化硅(SiC)具有宽禁带、高临界击穿电场、高热导率等优异特性,是制备高温、高频、大功率器件最理想的半导体材料之一.然而,制备良好的SiC欧姆接触尤其是p型SiC欧姆接触仍然是SiC器件研制...
  • 作者: 刘召军 张彦军 李云超 李坤 胡旭文 闫树斌
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  410-414,420
    摘要: 芯片原子钟(CSAC)可以提供精准的时间基准,具有较好的应用前景.利用微型PIC(R)单片机和增量式比例-微分-积分(PID)算法设计了一种CSAC微电子机械系统(MEMS)原子气室数字温控...
  • 作者: 周斌腾 唐俊龙 罗磊 肖仕勋 谢海情 邹望辉
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  415-420
    摘要: 基于HHNEC 0.35 μm 40 V BCD工艺,采用峰值电流检测模式的脉冲宽度调制方式,设计了一款能在8~42 V的输入电压范围内,-40~ 125℃的温度范围内正常工作的高转换效率、...
  • 作者: 张晓朋 曲韩宾 高博 高思鑫
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  421-425,432
    摘要: 设计了一种适用于1.0~2.0 GHz的高线性下变频混频器.电路设计采用了无源双平衡结构,片内集成宽带巴伦、限幅本振放大器、混频核和偏置电路.为了提高混频器的线性度,在对无源双平衡的结构进行...
  • 作者: 吴昊 孙跃 康玄武 张静 杨兵 赵志波 郑英奎 闫江 魏珂
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  426-432
    摘要: 研究了无凹槽AlGaN/GaN肖特基势垒二极管(SBD)的正向电流输运机制.分别采用Ni/Au和TiN作为阳极金属材料制备了无凹槽AlGaN/GaN SBD,对比了两种SBD的直流特性.并通...
  • 作者: 冯志红 吕元杰 张志荣 房玉龙 敦少博 郭红雨 韩婷婷 顾国栋
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  433-437
    摘要: 研制了一款X波段增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT).在3英寸(1英寸=2.54 cm)蓝宝石衬底上采用低损伤栅凹槽刻蚀技术制备了栅长为0.3 μm的增强型AlGaN/Ga...
  • 作者:
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  437
    摘要:
  • 作者: 刘英博 孙堂友 李海鸥 李玺 李琦 李跃 李陈成 陈永和
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  438-443
    摘要: 制备了Al/Al2O3/InP金属氧化物半导体(MOS)电容,分别采用氮等离子体钝化工艺和硫钝化工艺处理InP表面.研究了在150、200和300 K温度下样品的界面特性和漏电特性.实验结果...
  • 作者: 张静 朱轩民 李晓婷 李永亮 王文武 闫江 马雪丽
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  444-448,463
    摘要: 研究了不同条件的非原位NH3等离子体钝化对Al2O3/SiGe/Si结构界面组分的影响.在p型Si(100)衬底上外延一层30 nm厚的应变Si0.7Ge0.3,采用双层Al2O3结构,第一...
  • 作者: 何远东 吕菲 王云彪 田原 耿莉 陈亚楠
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  449-453
    摘要: 锗外延片表面的雾、水印及点状缺陷等会影响太阳电池的性能和成品率,其中点状缺陷出现的比例最高.研究了锗抛光片清洗工艺对外延片表面点状缺陷的影响,获得了无点状缺陷、低粗糙度及高表面质量的锗单晶片...
  • 作者: 周庆华 张彩珍 陈永刚
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  454-458
    摘要: 利用磁控溅射法在玻璃衬底上淀积铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜作为缓冲层,在其上制备了ZnO薄膜.重点研究了AZO薄膜作为缓冲层对玻璃衬底上ZnO薄膜特性的影响.扫描电子显微镜(SEM)图像和X射...
  • 作者: 兰飞飞 杨瑞霞 钱盛亚
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  459-463
    摘要: 以化学气相沉积(CVD)方法在蓝宝石衬底上沉积一层较厚的MoS2膜作为前驱体,使用物理气相传输(PVT)方法制备了层状MoS2薄膜.用光学显微镜、扫描电子显微镜、喇曼光谱和光致发光光谱对制备...
  • 作者: 任青华 俞文杰 刘强 刘晨鹤 赵兰天 闵嘉华 陈治西
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  464-470,487
    摘要: 对基于全耗尽绝缘体上硅(FDSOI)的隧穿场效应晶体管(TFET)器件和金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)器件进行了总剂量(TID)效应仿真,基于两种器件不同的工作原理,研究了总剂...
  • 作者: 乔玉娥 刘霞美 梁法国 翟玉卫 郑世棋
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  471-476
    摘要: 研究了不同脉冲工作条件对GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)结温的影响,通过改变脉冲信号发生器的输出频率和占空比来改变器件的工作条件,利用具备高空间分辨率的显微红外热像仪进行瞬态结温测试.结...
  • 作者: 孙科伟 张胜男 杨丹丹 王健 程红娟 郝建民 金雷
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  477-482
    摘要: 介绍了高分辨X射线衍射(HRXRD)面扫描技术在评估4H-SiC抛光片整体结晶质量方面的应用.对4H-SiC抛光片整片及局部特定位置进行HRXRD摇摆曲线面扫描,并拟合摇摆曲线半高宽(FWH...
  • 作者: 宋法伦 张琦 李飞 王淦平 金晓
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2019年6期
    页码:  483-487
    摘要: 采用新型半导体开关漂移阶跃恢复二极管(DSRD)研制了一种纳秒级固态脉冲发生器.通过建立DSRD仿真等效模型,模拟DSRD器件的真实输出波形;采用双极并联结构电路设计,满足DSRD工作所需的...

半导体技术基本信息

刊名 半导体技术 主编 赵小宁
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共和国工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1003-353X CN 13-1109/TN
邮编 050002 电子邮箱 bdtj1339@163.com
电话 0311-87091339 网址
地址 石家庄179信箱46分箱

半导体技术评价信息

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