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真空
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本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来，由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会，并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增，在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来，被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉：
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
工程技术类核心期刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
出版周期：
双月刊
邮编：
110042
地址：
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 四探针法是材料学及半导体行业电学表征较常用的方法,其原理简单,能消除接触电阻影响,具有较高的测试精度.由厚块原理和薄层原理推导出计算公式,并经厚度、边缘效应和测试温度的修正即可得到精确测量值...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 基于螺杆啮合原理,通过数学推导,得到单头等螺距梯形内凹型线的完整型线方程,包括齿面方程、端面截形以及轴向截形.给出了面积利用系数公式以及理论抽速公式,讨论了型线中各参数对干式螺杆真空泵的性能...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 以理论模型计算和实验样品测试相对比的方法,研究了两种不同芯材真空绝热板导热系数与板内真空度之间的关系,利用逆真空法对真空绝热板板内压力进行了测试.探讨了真空绝热板制作工艺参数,保持板内真空度...
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4. 飞机真空泵故障模式分析刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 现代通用航空领域活塞发动机驱动的干式真空泵主要用于给姿态仪、航向仪等机载气动仪表提供真空源.简要介绍了现代通用航空领域活塞发动机驱动的干式真空泵的结构特点和工作原理,收集、整理了某飞行学校机...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 针对粉末冶金真空烧结炉时变性、大滞后、非线性的特点,采用PID控制效果不理想,选用了模糊控制算法.建立了PID控制和模糊控制仿真模型,进行了对比,结果表明,采用模糊控制后,系统响应速度很快,...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 本文针对某质谱计离子源的设计,建立了离子源静电场数学模型,采用有限差分法对其场域进行离散,半迭代切比雪夫松弛法求解各节点的电位,拉格朗日插值法计算空间任意点的电位和电场,四阶龙格-库塔法计算...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 本文采用发射光谱法诊断了低气压下氩气(Ar)、硅烷(SiH4)及乙烯(C2H4)混合气体(SiH4/C2H4/Ar)脉冲调制射频放电等离子体特性,利用了Ar发射光谱中的五条谱线通过Boltz...
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8. 真空比对法校准装置的研究刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 真空比对法校准装置采用了动态直接比对法、静态直接比对法和静态膨胀法,在一台装置上复合了三种方法,满足了拓宽量程的需求.该装置可以1×105-5×10-4 Pa范围内的各类真空规进行校准,是一...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 采用外置式电容耦合低压等离子化学气相沉积法制备非晶CHN薄膜.X射线光电子能谱仪分析表明薄膜表面C、N和O的相对含量比,同时随着N2/CH4比例增大,薄膜中N元素的含量逐渐增加;并且对薄膜中...
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10. 信息动态刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 目前液压杆件基本上采用电沉积的方法在基体表面沉积一层Cr膜,以此来满足其耐热、耐磨和抗腐蚀要求,但电沉积Cr不但浪费能源而且对环境和人体健康有着极大的伤害.本文利用非平衡磁控溅射的方法在45...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 场致发射是一种新型显示技术,具有良好应用前景,场发射显示器的核心内容是场发射阴极材料,纳米金刚石由于低表面粗糙度、低场发射强度、高发射电流密度、大比表面积、网状结构以及高密度悬挂键等优秀电化...
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13. 磁控过程的计算机模拟刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 本文基于蒙特卡罗方法,并结合SRIM软件,编制程序跟踪模拟了磁控溅射各物理过程的粒子状态.以铝靶材为例,得到了粒子在磁控溅射各物理过程的状态分布,讨论了工作参数对薄膜沉积过程的影响.模拟结果...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 采用激光分子束外延(LMBE)技术在Si(100)上制备了高质量的TiN薄膜.对N2分压和激光脉冲能量对TiN薄膜晶体结构、生长模式和表面形貌影响的研究表明,TiN单晶薄膜呈(200)择优取...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 本文采用磁控溅射方法,通过金属钼靶材在Ar+O2气氛中反应溅射制备了氧化钼薄膜.在制备样品过程中改变反应气氛O2的流量,保持其它参数不变,得到不同的氧化钼薄膜.采用X射线衍射(XRD)和扫描...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 采用射频磁控溅射法,以HfO2陶瓷作为靶材,在石英衬底上制备了HfO2薄膜.通过椭圆偏振光谱仪(SE)、X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)研究了不同O2/Ar气体流量...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 采用射频反应磁控溅射法在中国低活化马氏体(CLAM)不锈钢表面制备了单层Al2O3、SiC、W薄膜以及SiC/Al2O3、W/Al2O3双层膜.对所制备的薄膜进行了XRD结构分析、AFM表面...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 采用直流热阴极PCVD方法间歇生长模式,在CH4-H2气氛常规制备微米晶金刚石膜的参数条件下,利用人工干预二次形核工艺,研究了间歇周期变化对制备纳米晶金刚石膜的影响.人工干预二次形核是指通过...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要： 超氧化物歧化酶经真空处理不同时间,利用圆二色光谱研究不同真空时间对超氧化物歧化酶二级结构的影响.结果表明:在3～15 min范围,不同真空处理时间对超氧化物歧化酶的α-螺旋、β-折叠、β-转...
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20. 第十七讲薄膜与表面技术基础刊名： 真空发表期刊： 2011年3期页码:摘要：
真空基本信息
| 刊名 | 真空 | 主编 | 陆国柱 |
| 曾用名 | 真空技术报导 | ||
| 主办单位 | 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 | 主管单位 | 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1002-0322 | CN | 21-1174/TB |
| 邮编 | 110042 | 电子邮箱 | zkzk@chinajournal.net.cn |
| 电话 | 024-24134406 | 网址 | www.vacjour.cm |
| 地址 | 辽宁省沈阳市万柳塘路2号 |
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