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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量（篇）
4084
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3
总被引数（次）
19905
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  • 1. V2O5薄膜的结构和光电性能研究
    作者： 许旻 贺德衍 邱家稳
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  373-376
    摘要： 在O2/Ar混合气氛中,用脉冲磁控溅射金属V靶沉积出非晶的V2O5薄膜.对所沉积的薄膜进行450 ℃退火.利用X射线衍射、原子力显微镜、分光光度计和电阻测量等手段对薄膜的结构和性能进行了分析...
  • 2. 彩色PDP真空紫外辐射特性的分析
    作者： 何锋 刘纯亮 王建琪 耿艳霞
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  377-381
    摘要： 利用二维流体模型,对三电极结构的PDP单元在维持放电期间的辐射特性进行了模拟研究,发现增大两共面电极的长度或间隙,都会不同程度地提高PDP单元的激发效率和真空紫外辐射效率.在分析了此计算结果...
  • 3. 摩擦取向膜表面液晶薄层厚度的研究
    作者： 乌日娜 于涛 宣丽 张力 彭增辉 阮圣平
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  382-384
    摘要： 基于液晶具有光学单轴晶体的性质,结合阿贝折射仪测出了方位折射率,利用反射椭偏消光法测量原理解决了在多层介质膜上液晶吸附层厚度测量问题.利用这种方法测量了经过摩擦取向处理的高分子取向膜表面的液...
  • 4. 新型PDP放电单元着火特性的研究
    作者： 屠彦 崔伟
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  385-388,399
    摘要： 采用数值方法,研究了新型荫罩式PDP(SM-PDP)放电单元的着火特性,并与传统表面放电式PDP(ACC-PDP)作了比较.计算了沿不同放电路径下的气体着火电压,讨论并分析了两种结构中,某些...
  • 5. 新型荫罩式PDP单元结构的优化设计
    作者： 尹涵春 屠彦 杨兰兰 王保平 童林夙
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  389-394
    摘要： 本文讨论了新型荫罩式PDP单元结构的变化对放电的影响,从放电强度和放电效率的角度对单元结构进行优化设计.研究了取代介质障壁的荫罩的高度、宽度变化和荫罩内边界形状的变化对放电的影响,给出了不同...
  • 6. SMPDP放电单元中荧光粉层对放电特性的影响
    作者： 尹涵春 屠彦 崔伟 张雄 王保平 童林夙
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  395-399
    摘要： 本文采用流体模型,计算了新型荫罩式PDP(SMPDP)放电单元的放电特性.研究了放电单元中荧光粉层的厚度对放电过程和着火电压的影响.模拟结果表明,在SMPDP结构中,荧光粉层厚度的变化,对放...
  • 7. 用于中性束注入器的4.2 K液氦低温冷凝泵的设计
    作者： 欧阳峥嵘 王娟 胡纯栋 谢远来 陈长琦
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  400-403,407
    摘要： 在中性束注入器的研制中,大抽速低温泵的设计是其中非常重要的一部分.本文结合中性束注入器对真空系统的要求,介绍了中性束注入器真空系统的构成,并以布置于中性化室部位的低温泵为例,详细阐述了用于中...
  • 8. 理论分析辉光放电对碳纳米管生长速率的影响
    作者： 崔玉亭 廖克俊 张兵 王万录 王必本 郑坤
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  404-407
    摘要： 利用负偏压增强热丝化学气相沉积,在沉积过渡层Ta和催化剂NiFe层的Si衬底上制备了碳纳米管,并用扫描电子显微镜研究了它们的形貌.发现辉光放电后,碳纳米管的平均长度比无辉光放电时大,并且随着...
  • 9. 空气中大气压下低温等离子体对聚四氟乙烯进行表面改性的研究
    作者： 徐大威 方志 杨芸 罗毅 邱毓昌
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  408-412
    摘要： 建立了空气中产生大气压下辉光放电(APGD)和介质阻挡放电(DBD)的装置,通过放电的电气特性和发光特性测量,界定了APGD和DBD的放电特点.研究了空气中APGD和DBD对聚四氟乙烯(PT...
  • 10. 有效介质理论在Ag-MgF2复合纳米颗粒薄膜中的应用
    作者： 孙兆奇 王佩红 王磊 蔡琪
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  413-416
    摘要： 将描述弥散体系行为的Maxwell-Garnett理论与Bruggeman理论应用于Ag-MgF2复合纳米颗粒薄膜,分别计算出该复合体系在250 nm～830 nm波段范围内的光学常数n、k...
  • 11. 金刚石声表面波器件的研究与进展
    作者： 李冬梅 潘峰 陈菁菁
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  417-424,428
    摘要： 高频无线通讯系统的迅速发展推动了对高频声表面波(SAW)器件需求的不断增大.金刚石具有最高的声速和许多优于其他材料的特性,因此金刚石声表面波器件受到了越来越多的关注.本文介绍了金刚石声表面波...
  • 12. 电子回旋共振CF4+O2等离子体中Si3N4刻蚀工艺研究
    作者： 付俊兴 徐新艳 杨银堂 柴常春 汪家友 王平
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  425-428
    摘要： 在一台自行研制的电子回旋共振(ECR)刻蚀系统中用CF4、O2气体实现了Si3N4材料的微细图形刻蚀.获得了气体流量、气体混合比、微波功率等因素对刻蚀速率的影响.结果表明刻蚀速率在O2含量为...
  • 13. 微波ECR等离子体源离子注入法制备DLC薄膜
    作者： 唐祯安 李新 王金刚 邓新绿 马国佳
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  429-431
    摘要： 用微波ECR等离子体源离子注入(PSII)法,在硅片(100)上制备了类金刚石(DLC)薄膜,工作气体采用CH4气体,研究了不同的气体流量对薄膜的影响.对制备的DLC薄膜,用拉曼光谱、FT-...
  • 14. 波导真空侧射频击穿导致陶瓷窗破裂
    作者： 俞家文
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  432-434
    摘要： 出示真空侧波导内部打火导致陶瓷窗破裂的一些证据,支持关于陶瓷窗破裂是由于真空波导内靠近陶瓷窗附近(或在其上)强射频击穿引起的观点,最后简要分析之.
  • 15. 金刚石膜上电子束蒸镀Ti/Ni/Au多层膜
    作者： 杜素梅 潘存海
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  435-438,434
    摘要： 经过相图分析提出了CVD金刚石膜上蒸镀Ti/Ni/Au的体系.采用该体系、富氧预处理工艺和电子束真空镀膜方法,金刚石膜和多层金属膜之间获得了良好结合强度.研究发现:富氧预处理对多金属膜和金刚...
  • 16. 磁控溅射Ni-0.5Y微晶涂层高温氧化机理研究
    作者： 姜世杭 杨树和 陈荣发 靳惠明
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  439-442
    摘要： 研究了纯镍及其表面磁控溅射Ni-0.5Y微晶涂层在1000 ℃空气中的恒温氧化和循环氧化行为.通过扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)对涂层以及表面NiO膜的形貌和结构进行了研究.此外,还...
  • 17. 镀膜工艺与镀膜系统配置
    作者： 伊恩·史蒂文森 弗兰克·泽蒙 戴尔·莫顿
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年6期
    页码:  443-448
    摘要： 在过去的15～20年中,光学薄膜镀制设备出现了令人瞩目的变化.以前,一般的镀膜机都是纯人工操作,最先进的也只是半自动控制,都必须依靠高水平的操作人员来保证镀膜产品的一致性.而现在,高质量的光...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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