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动态随机存取存储器的有源区接触窗及其制造方法
动态随机存取存储器的有源区接触窗及其制造方法
申请人：
摘要：
本发明提供一种动态随机存取存储器的有源区接触窗及其制造方法，其中的存储器有源区制造方法，包括在基板上形成导电层，覆盖接触窗区域与位线。上述动态随机存取存储器至少包括基板、基板内的隔离结构、经由隔离结构隔开的有源区、穿过有源区的埋入式字线以及基板上的位线，其中每一有源区包括多个接触窗区域。在形成导电层后，去除接触窗区域以外的上述导电层，以形成多个有源区接触窗，再于所述基板上形成绝缘层，覆盖有源区接触窗。
基本信息
| 专利类型 | 发明 | ||
| 申请(专利)号 | CN201410803389.3 | 申请日 | 2014-12-22 |
| 授权公布号 | CN105789179B | 授权公告日 | 2019-01-11 |
| 申请人 | 华邦电子股份有限公司 | ||
| 地址 | 中国台湾台中市大雅区科雅一路8号 | ||
| 发明人 | 陈佩瑜 欧阳自明 | ||
| 分类号 | H01L21/8242 H01L23/528 H01L21/768 H01L27/108 | 主分类号 | H01L21/8242 |
| 国省代码 | 页数 | ||
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | ||
| 代理人 | 华邦电子股份有限公司 | ||
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