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光学挡墙结构
光学挡墙结构
申请人：
摘要：
本实用新型提供一种光学挡墙结构，其包括一基板、一第一挡墙层及一第二挡墙层，基板具有一工作面，第一挡墙层形成于工作面上，且第一挡墙层围构一裸露工作面的第一开窗；第二挡墙层形成于第一挡墙层上，且第二挡墙层围构一第二开窗，第二挡墙层的横截面积小于第一挡墙层，且第二开窗的轮廓大于第一开窗。
基本信息
| 专利类型 | 实用型 | ||
| 申请(专利)号 | CN201920950088.1 | 申请日 | 2019-06-24 |
| 授权公布号 | CN209963020U | 授权公告日 | 2020-01-17 |
| 申请人 | 培英半导体有限公司 | ||
| 地址 | 中国台湾新北市林口区 | ||
| 发明人 | 李蕙如 | ||
| 分类号 | H01L21/027 H01L21/308 H01L31/02 H01L31/0203 H01L31/12 H01L31/18 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 国省代码 | 页数 | ||
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | ||
| 代理人 | 培英半导体有限公司 | ||
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