真空沉积技术的发展趋势

李桂云; 许凤兰

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真空沉积技术的发展趋势

作者：

李桂云许凤兰

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真空沉积

蒸镀

溅射

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文献信息

篇名	真空沉积技术的发展趋势
来源期刊	电子工艺简讯	学科	工学
关键词	真空沉积蒸镀溅射
年，卷（期）	1990,（11）	所属期刊栏目
研究方向		页码范围	15-18
页数	4页	分类号	TN405.986
字数		语种
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