膜层厚度分布与蒸发源相对位置的设计探讨

• 作者: 戴德星 郑文汀
• 来源期刊: 薄膜科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 相对位置 镀膜机 卷绕式镀膜机 蒸发源 膜层膜厚分布
• 年，卷（期）: 1991,（4）
• 页码范围: 46-54
• 页数: 9页
• 分类号: TN305

摘要

本文用计算机对三台国产镀膜机的膜厚分布进行计算，分析了膜厚均匀产生的主要原因；提出了利用计算机帮助寻找蒸发源的最佳排列，以获得在所要求的基材宽度内的最佳膜厚分布。讨论了真空度对膜厚分布的影响，并提出了膜厚分布的修正公式。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑文汀	福州大学物理系	1	0	0.0	0.0
2	戴德星	福州大学物理系	1	0	0.0	0.0