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利用氢等离子体预处理实现对GaAs的光滑的反应性离子蚀刻
利用氢等离子体预处理实现对GaAs的光滑的反应性离子蚀刻
作者:
张殿莉
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预处理
砷化镓
等离子体蚀刻
摘要:
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篇名
利用氢等离子体预处理实现对GaAs的光滑的反应性离子蚀刻
来源期刊
等离子体应用技术快报
学科
工学
关键词
预处理
砷化镓
等离子体蚀刻
年,卷(期)
1996,(6)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
4-5
页数
2页
分类号
TN304.23
字数
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预处理
砷化镓
等离子体蚀刻
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研究来源
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等离子体应用技术快报
主办单位:
核工业西南物理研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
四川省成都市432信箱
邮发代号:
创刊时间:
语种:
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864
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