一种保持真空室真空度稳定的控制系统

• 作者: 程健 邬钦崇
• 来源期刊: 微小型计算机开发与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 真空度 单片机 真空室 控制系统
• 年，卷（期）: 1996,（6）
• 页码范围: 37-41
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.18

摘要

本项工作是配套“８６３”项目金刚石镀膜装置而进行的，由于沉积金刚石膜的时间长达几十个小时，真空室真空度的稳定性对膜质量的好坏有很大的影响，所以保持真空度的稳定将成为一个关键性的技术问题，本文简要地介绍了利用单片机实现真空度稳定控制的工作原理，阐述了软，硬件的具体实现方法，该控制系统可按需要进行真空度的调节和设置，可与任何有真空稳定度要求的真空装置相配套。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邬钦崇	中科院等离子体物理研究所	2	3	1.0	1.0
2	程健	中科院等离子体物理研究所	1	0	0.0	0.0