样品室真空度对磁控溅射Ti膜结构的影响

• 作者: 李永良
• 来源期刊: 现代仪器与医疗
• 关键词: 真空度 Ti膜 结构 氧含量
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 新技术应用
• 页码范围: 21-22
• 页数: 2页
• 分类号: TH74
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7916.2007.01.006

摘要

本文利用场发射扫描电子显微镜和能谱仪研究不同样品室真空度条件下磁控溅射Ti沉积膜膜层的氧含量和微观结构.结果发现,当样品室真空度较低时,膜层的氧含量很高,膜层为钛的氧化物;随着真空度的提高,膜层的氧含量降低,Ti的晶粒出现;进一步提高真空度,Ti晶粒更为明显,膜层的截面呈柱状晶结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李永良	北京师范大学分析测试中心	58	807	15.0	26.0