磁控溅射制备参数对ZnO薄膜结构和光学性能的影响

• 作者: 余花娃 刘静 杜亚利 王晶
• 来源期刊: 纺织高校基础科学学报
• 关键词: 磁控溅射 ZnO薄膜 射频功率 结晶性
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 181-185
• 页数: 5页
• 分类号: O472+.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-8341.2007.02.019

摘要

采用RF磁控溅射法,在硅(100)衬底上生长出高质量(002)晶面取向的ZnO薄膜.通过XRD和透射光谱研究了射频功率和氧气比例对ZnO薄膜的晶粒尺度、应力状态和光学性能的影响.研究结果显示,射频功率在100W下制备的ZnO薄膜,当氧气比例为60%时,能获得单一c轴择优取向和最小半高宽,压应力最小的薄膜,即结晶性较好的薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘静	陕西师范大学物理学与信息技术学院	38	280	7.0	16.0
2	余花娃	西安工程大学理学院	18	39	3.0	5.0
6	杜亚利	西安工程大学理学院	7	16	2.0	3.0
7	王晶	西安工程大学理学院	17	29	3.0	4.0