磁控溅射制备参数对ZnO:Al光学性能的影响

• 作者: 殷胜东 殷霖 马勇
• 来源期刊: 云南民族大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: ZAO薄膜 光学性能 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 页码范围: 126-129
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2430字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-8513.2006.02.012

摘要

ZnO:Al(ZAO)透明导电薄膜是一种n型半导体,有高的载离子浓度和大的光学禁带宽度,具有优异的电学和光学性能,有极广的应用前景.着重分析了磁控溅射制备参数对光学性能的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马勇	重庆师范大学物理学和信息技术学院	52	378	11.0	17.0
2	殷霖	重庆师范大学物理学和信息技术学院	7	27	3.0	5.0
3	殷胜东	重庆师范大学物理学和信息技术学院	7	15	3.0	3.0