基底温度对磁控溅射制备ZnO薄膜性能的影响

• 作者: 周明飞 孙兆奇 宋学萍
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 基底温度 微结构 应力 红外光谱
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 598-601
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 字数: 3480字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2007.04.026

摘要

利用射频磁控溅射,在Si基底上制备了ZnO薄膜.采用电子薄膜应力分布测试仪、X射线衍射和傅立叶变换红外光谱仪等检测手段研究了基底温度对其应力、微结构及光学性能的影响.ZnO薄膜在(002)晶面具有良好的c轴取向.在基底温度为200～300 ℃范围内,ZnO薄膜具有良好的结晶性能和较均匀的应力分布.红外光谱在430cm-1附近出现了Zn-O键的振动吸收峰.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋学萍	安徽大学物理与材料科学学院	63	367	10.0	14.0
2	孙兆奇	安徽大学物理与材料科学学院	91	563	11.0	16.0
3	周明飞	安徽大学物理与材料科学学院	6	62	4.0	6.0