RF磁控溅射法制备ZnO薄膜的XRD分析

• 作者: 吕珺 吴玉程 汪冬梅 郑治祥 陈长奇
• 来源期刊: 理化检验-物理分册
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 RF磁控溅射 XRD 退火处理 结晶性能
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 实验技术与方法
• 页码范围: 19-22,39
• 页数: 5页
• 分类号: TG115.23
• 字数: 3613字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4012.2006.01.006

摘要

采用RF磁控溅射法,在玻璃衬底上制备多晶ZnO薄膜,并对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行了不同温度(350～600℃)的退火处理和600℃时N2气氛中的退火处理.利用X射线衍射分析了溅射参数如溅射功率、溅射氧分压、衬底温度以及退火处理对ZnO薄膜结晶性能的影响.结果表明,合适的衬底温度和退火处理能够提高ZnO薄膜的结晶质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴玉程	合肥工业大学材料科学与工程学院	356	3745	28.0	45.0
2	郑治祥	合肥工业大学材料科学与工程学院	157	2008	24.0	36.0
3	吕珺	合肥工业大学材料科学与工程学院	55	567	13.0	21.0
4	汪冬梅	合肥工业大学材料科学与工程学院	21	204	9.0	13.0
5	陈长奇	合肥工业大学机械学院真空实验室	2	39	2.0	2.0